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by admin
先进工艺芯片局部去层找Defect 可用何种工具
2022-03-24

先进工艺的样品Defect若过于分散,想顾及每个位置,一般研磨手法进行去层风险较高,可能无法兼顾,该如何处理?透过PFIB去层,不仅可以边切边拍,针对大范围的结构观察,不仅可完整呈现欲观察之结构,蚀刻效率更是传统Dual-Beam FIB的20倍以上,可有效缩短分析速率…

超过 100 um大范围结构观察,如何做Cross Section
2016-10-26

Plasma FIB,不仅拥有Dual-Beam FIB双枪设计边切边拍,针对大范围结构观察,可完整呈现欲观察之结构,蚀刻效率更是Dual-Beam FIB的20倍以上..