原子力显微镜 (AFM)

原子力显微镜（Atomic Force Microscope, AFM），主要原理是藉由针尖与试片间的原子作用力，使悬臂梁产生微细位移，以测得样品表面形貌起伏。

两岸少数可分析12吋wafer的AFM实验室，保存您完整晶圆以便后续进行其他实验。
业界最大扫描面积，同时仍保有绝佳分辨率的AFM profiler。
外加其他功能显微镜，分析应用之范围更扩大。如CAFM导电式原子力显微镜（Conductive Atomic Force Microscopy, CAFM）和SCM扫描式电容显微镜（Scanning Capacitance Microscopy, SCM)。参见下表

	AFM	AFM profiler	CAFM	SCM
分析原理	针尖与试片间的原子作用力，以测得表面形貌起伏		探针在针尖或试片上施予电压，以获得样品表面电流强度	经由导电探针取微分电容讯号转为二维掺杂分布影像
分析应用	1. 材料表面粗糙度检测与结构观察 2. 2D/3D 材料表面形貌影像 3. 奈米级纵深分析及尺寸量测		1. 侦测阻值偏高或漏电 2. 区别出 P+/ N+ /Poly contact 3. 对单点量测 I-V curve	P-N 型区域及其界面
机台规格	试片大小(mm) ： 200 x 200 x 15 可放置(mm) 300 x 300 (12"wafer) 分析范围(um) : 90 x 90 x 5	试片大小(mm) ： 300 x 300 最大扫描长度(um)： 50000	放大器倍率： 10⁷ ~10 ¹¹ 偏压范围： -10V~10V	平面分辨率： 20nm 掺杂浓度范围： 10¹⁵ ~10¹⁹ atom/cm³ 扫描范围： 90*90um/ 高度限制在 2cm 以内