首頁 Service 剖面/晶背研磨 (Cross-section/Backside) 剖面/晶背研磨 (Cross-section/Backside) 2017-07-03by admin 剖面研磨 背面研磨 快速的样品制备方式之一,利用砂纸或钻石砂纸,搭配研磨头作局部研磨(Polishing),加上后续的抛光,可处理出清晰的样品表面。 半自动化研磨技术 成功薄化硅基板 轻松找出失效点 iST 宜特能为你做什么 iST不仅可以提供一般剖面研磨(Cross-section),也提供样品从背面进行研磨(晶背研磨,Backside Polishing),将基材磨至特定的厚度后再进行抛光。剖面、断面研磨与晶背研磨(Backside Polishing),都是为了可以衔接后续的分析检测。 研磨(Polishing)基本流程 切割:利用切割机裁将样品裁切成适当尺寸 冷埋:利用混合胶填满样品隙缝,增强样品之结构强度,避免受研磨应力而造样品毁损 研磨:样品以不同粗细之砂纸 (或钻石砂纸),进行研磨 抛光:于绒布转盘上加入适当的抛光液,进行抛光以消除研磨所残留的细微刮痕 iST 宜特服务优势1领先市场的多层芯片堆栈取汲技术:3D 芯片制程 取样 2成功率高 3交期快速 案例分享剖面研磨 (Cross-section)晶背研磨(Backside Polishing) 晶粒(Die)剖面研磨 铜制程剖面研磨 铜制程剖面研磨 一般芯片 晶背研磨 COB封装形式晶背研磨 晶背研磨后, OBIRCH分析影像 应用产业 芯片之产品,如覆晶封装( Flip Chip)、铝/铜制程结构、C-MOS Image Sensor PCB/PCBA等各种板材或成品 LED成品 联络窗口 | email:marketing_chn@istgroup.com 您可能有兴趣的其他服务 双束聚焦离子束(Dual Beam FIB) 芯片电路修改/点针垫侦错 扫描式电子显微镜 (SEM) 砷化镓铟微光显微镜(InGaAs) 激光束电阻异常侦测(OBIRCH) 微光显微镜(EMMI)